现代拉单晶的坩埚一般是采用电弧法生产,半透明状,是拉制大直径单晶硅,发展大规模集成电路必不可少的基础材料。现代的石英坩埚则存在二种结构,外侧是一层具有高气泡密度的区域,称为气泡复合层,内侧则是一层3~5mm的透明层,称之为气泡空乏层。气泡复合层的目的是在与均匀的辐射有加热器所提供的辐射热源。气泡空乏层的目的在于降低与溶液接触区域的气泡密度,而改善单晶生长的成功率及晶棒品质。
石墨坩埚热后不可立刻将其置於冷的金属桌面上,以避免它因遇冷而破裂。也不可立即放在木质桌面上,以避免烫坏桌面或是引起火灾。正确的作法为留置在泥三角架上自然冷却,石墨坩埚哪里好,或是放在石绵心网上令其慢慢却。选择时首先看形状颜色,成色好坏会直接影响到坩埚的质量,然后影响坩埚的寿命。有的公司对客户不负责,以次充好,大家要敬请悉知。
坩埚使用规定:
1.铂坩埚熔点为1773.5℃,使用温度1高不可超过1200℃,不能在明火上直接加热。
2.取用坩埚时勿太用力,以免变形或致凹凸,聊城石墨坩埚,切不可用玻璃棒尖头取埚内物质。
3. 不得在铂坩埚内加热或熔融碱金属的氧化物、氢氧化物、氧化钡、硫1代硫酸钠,含磷以及含大量硫的物质;碱金属的硝1酸盐、亚硝1酸盐、氧化物等在高温下与铂形成脆性磷化铂、硫化铂,且都能侵蚀铂。
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